一种基于激光冲击波提高光学元件力学性能的后处理方法

一种基于激光冲击波提高光学元件力学性能的后处理方法

申请号/专利号：2017100924018          申请日：2017-02-20

发明人/设计人：刘文文、曹宇、张健、朱德华

本发明提供了一种基于激光冲击波提高光学元件力学性能的后处理方法，以未进行激光冲击波后处理时薄膜元件的力学特性R0、A0、B0、H0和抗激光损伤能力F0、G0为基准，分别获得E0、Em和△E对S次激光冲击波处理后样品力学性能Rs、As、Bs、Hs和抗激光损伤能力Fs、Gs的影响规律；根据力学性能和抗激光损伤能力的提升情况，对初始激光能量E0、能量递增梯度△E和最大激光能量Em进行优化，当薄膜元件力学性能和抗激光损伤能力不再提升，且满足实验样品的要求时，停止循环，完成薄膜元件力学性能后处理。本发明实现了对高功率光学薄膜元件力学性能的改善，解决了光学薄膜元件附着力、膜层结合力、残余应力等力学性能目前缺乏有效手段控制的难题。